华为不畏美国制裁,为一系列旗舰机量产 7 纳米麒麟 9000S 被业界观察家视为奇迹,但这并不意味着前路会变得更容易。在最新的报告中,台积电前研发副总裁(因发明浸没式光刻技术而闻名)被誉为 "芯片专家",他表示,在现有的 DUV 设备上制造 5 纳米芯片组将非常昂贵,但也是可行的。
使用 DUV 设备批量生产 5 纳米硅片至少需要四次图案化过程,不仅耗时,而且成本高昂。
据报道,P70、P70 和 P70 Art 正在开发中,预计将于 2024 年推出,是华为明年的第一波旗舰手机。不过,目前还没有关于这些高端智能手机将使用哪种芯片组的信息,但被 DigiTimes 称为 "芯片专家" 的 Burn Lin 声称,在 DUV 机器上从 7 纳米芯片向 5 纳米芯片过渡是可能的,但华为将为此付出代价。报道称,在中芯国际现有的 DUV 光刻机上,量产 5 纳米 SoC 至少需要四倍图案化。
不幸的是,这种工艺的缺点是不仅耗时长,而且成本高,并会影响整体产量,这表明华为明年的 P70 系列可能没有足够的 "下一代" 5 纳米麒麟芯片供应。不过,Lin 并未将使用 EUV 设备大规模生产 5nm 芯片与使用 DUV 进行比较。荷兰尖端设备制造商 ASML 已被禁止向中芯国际等厂商提供突破 7 纳米门槛所需的设备,美国试图扼杀该地区的进步。
另一个挑战是,在使用 DUV 机器时,需要在多次曝光过程中进行精确对准,这可能需要时间,而且任何错位都有可能发生,从而导致产量降低,制造这些晶片的时间增加。Lin 表示,沉浸式 DUV 技术可以实现六倍图案,但问题同样来自上述相关缺点。
因此,中芯国际可能会就这些 5nm 晶圆向华为收取高得惊人的费用,而且鉴于这家前中国巨头的大部分智能手机出货量仅限于一个国家,芯片组的产量也会降低,从而导致这些麒麟 SoC 的价格进一步上涨。目前还不知道华为和中芯国际未来能否采购到一些 EUV 设备,但有报道称,中国政府正在投入数十亿美元减少对外部供应商的依赖,包括受美国影响的供应商。
来源:DigiTimes